一种带有电偏转的金刚石膜制备装置
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摘要

本实用新型涉及金刚石膜的制备技术,具体是一种带有电偏转的金刚石膜制备装置。本实用新型解决了采用热丝化学气相沉积法大面积制备金刚石膜时制备质量和速度受限的问题。一种带有电偏转的金刚石膜制备装置,包括圆筒形反应室、外层水管、圆饼形载台、内层水管、径向支撑杆、圆饼形水冷腔、驱动电机、驱动齿轮、圆环形托板、L形支撑杆、导电触头、传动圆环、轮轴、传动齿轮、集电环、传动杆、圆筒形安装座、矩形导电栅网、导电杆、电刷、竖向安装杆、径向安装杆、斜拉杆、热丝阵列、下圆形大导电栅网、上圆形大导电栅网、喇叭形导气罩、U形导气管、下圆形小导电栅网、上圆形小导电栅网、放电针、接地针。本实用新型适用于金刚石膜的大面积制备。

基本信息
专利标题 :
一种带有电偏转的金刚石膜制备装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920900224.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-16
授权号 :
CN210560746U
授权日 :
2020-05-19
发明人 :
郝昕曈郝晋青郭欣和
申请人 :
郝昕曈
申请人地址 :
山西省太原市迎泽区双塔东街26号薇彩雅苑
代理机构 :
太原新航路知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王勇
优先权 :
CN201920900224.6
主分类号 :
C23C16/513
IPC分类号 :
C23C16/513  C23C16/27  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
C23C16/513
采用等离子流
法律状态
2020-05-19 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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