基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导
授权
摘要
本实用新型涉及一种基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导。该AR眼镜波导由基于超结构浮雕光栅通过金属模板压膜而成，所述的超结构浮雕光栅包括基板和涂覆在基板上的聚合物，所述的聚合物上形成有多个由垂直激光刻蚀而成的周期性单元，每个周期性单元中包括多个小周期结构，每个小周期结构中未刻蚀区域宽度为a，刻蚀区域宽度为b，刻蚀区域的深度为Hi；其中Hi先线性增加，后保持一个常数。本实用新型通过引入小周期结构，采用半个大周期单元内，小周期结构刻蚀深度线性增加，另外半个大周期单元内，小周期结构内刻蚀深度维持不变。所有刻蚀采用垂直刻蚀，没有斜角度刻蚀，避免了斜角度刻蚀的工艺难度，便于大批量生产，也减少成本等优点。
基本信息
专利标题 ：
基于超结构浮雕光栅的AR眼镜波导
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920905137.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-17
授权号 ：
CN209784584U
授权日 ：
2019-12-13
发明人 ：
魏一振杨培培张卓鹏陈达如
申请人 ：
杭州光粒科技有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区长河街道聚才路88号1幢第2层201室
代理机构 ：
杭州奥创知识产权代理有限公司
代理人 ：
王佳健
优先权 ：
CN201920905137.X
主分类号 ：
G02B6/00
IPC分类号 ：
G02B6/00 G02B6/34 G02B27/01
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导；包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
法律状态
2019-12-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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