调节装置
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摘要

本实用新型涉及一种调节装置,包括:基座;支架,用于固定波片,支架设于基座内,支架能够在基座内转动,以使波片相对基座的偏转角度可调;润滑组件,润滑组件由非挥发性材质制成,设于支架和基座之间,润滑组件用于减小支架和基座之间的摩擦力。上述调节装置由于支架和基座之间设置有润滑组件,当支架在基座内转动时,润滑组件可以减小支架和基座之间的摩擦力,避免由于支架和基座之间的摩擦力过大而造成支架卡顿而无法旋转,确保波片相对基座的偏转角度的调节顺畅,同时由于润滑组件由非挥发性材质制成,当该调节装置安装于激光外光路系统中时,该调节装置的润滑组件不会挥发异物污染激光外光路系统中的元器件,具有无污染、调节顺畅的特点。

基本信息
专利标题 :
调节装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920932400.4
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-19
授权号 :
CN209821497U
授权日 :
2019-12-20
发明人 :
代雨成刘亮曹洪涛吕启涛高云峰
申请人 :
大族激光科技产业集团股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市南山区深南大道9988号
代理机构 :
深圳中细软知识产权代理有限公司
代理人 :
阎昱辰
优先权 :
CN201920932400.4
主分类号 :
G02B26/06
IPC分类号 :
G02B26/06  G02B7/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B26/00
利用可移动的或可变形的光学元件控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的光学器件或装置,例如,开关、选通或调制
G02B26/06
控制光的相位
法律状态
2019-12-20 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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