调节装置

授权

摘要

本实用新型涉及光刻胶曝光技术领域，公开了一种调节装置，能够调节对基片向上的压力大小。本实用新型包括底座，设有第一孔和第二孔；活动柱，以活动连接方式穿设于第二孔上；可调节的气囊，填充于第一孔内；半球型的碗槽，设于活动柱上端且底部设有可调节的真空腔；基片承载台，上端设有用于放置基片的平台；半球型的连接体，固定于基片承载台的底部，连接体置于碗槽内并与活动柱滑动连接。利用连接体和碗槽，可调节基片承载台的水平度，使基片上端面与掩膜板下端面完全贴合；调节气囊的压强，可改变对活动柱向上的力，从而改变基片承载台对基片向上的压力，则可调节基片和掩膜板之间接触的压强大小，使基片与掩膜板之间的接触压强在所需范围内。

基本信息

专利标题：

调节装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921805633.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-10-24

授权号：

CN210835587U

授权日：

2020-06-23

发明人：

王乡钟勇

申请人：

珠海迈时光电科技有限公司

申请人地址：

广东省珠海市香洲区南屏科技工业园屏东六路1号9号楼第二层205、206房

代理机构：

广州嘉权专利商标事务所有限公司

代理人：

叶琦炜

优先权：

CN201921805633.4

主分类号：

G03F9/00

IPC分类号：

G03F9/00