光学挡墙结构
授权
摘要
本实用新型提供一种光学挡墙结构，其包括一基板、一第一挡墙层、一雷射遮蔽铜层及一第二挡墙层，基板具有一工作面，第一挡墙层形成于工作面上，且第一挡墙层围构一裸露工作面的第一开窗；雷射遮蔽铜层形成于第一挡墙层的一上表面但不形成于围构第一开窗的侧壁；第二挡墙层形成于雷射遮蔽铜层上，且第二挡墙层围构一第二开窗，第二挡墙层的横截面积小于第一挡墙层，第二开窗的轮廓大于第一开窗，且第二开窗裸露雷射遮蔽铜层的一部分。
基本信息
专利标题 ：
光学挡墙结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201920950126.3
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-06-24
授权号 ：
CN209963083U
授权日 ：
2020-01-17
发明人 ：
李蕙如
申请人 ：
培英半导体有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新北市林口区
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
郭化雨
优先权 ：
CN201920950126.3
主分类号 ：
H01L33/48
IPC分类号 ：
H01L33/48 H01L33/44 H01L33/58 H01L31/0232 H01L31/0216 H01L31/0203
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法律状态
2020-01-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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