一种去除水体中噻虫嗪残留的装置
专利权的终止
摘要

本实用新型提供一种去除水体中噻虫嗪残留的装置,包括反应筒和搅拌装置,反应筒内从上至下依次设置相连通的反应腔、沉降腔和回流腔,回流腔的一侧设置有电磁吸附装置,另一侧设有排泥口,回流腔在电磁吸附装置下方的底部通过介质回流装置与反应筒的投料口相连通;含噻虫嗪残留的水通过反应腔内的搅拌装置与投加进入的反应介质充分接触,水中的噻虫嗪被吸附、降解,仍具有活性的反应介质经沉降后收集并重复使用;较于现有技术,本实用新型提供的一种去除水体中噻虫嗪残留的装置能够充分有效的对水中新烟碱类农药残留包括噻虫嗪、啶虫脒及吡虫啉等进行降解去除;同时,装置结构简单,节约环保,回收或更新装置中仍具活性或已失效的介质简单方便。

基本信息
专利标题 :
一种去除水体中噻虫嗪残留的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920951258.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-21
授权号 :
CN210974017U
授权日 :
2020-07-10
发明人 :
丁春霞姚茗淞赵阿娟
申请人 :
湖南农业大学;湖南省烟草公司长沙市公司
申请人地址 :
湖南省长沙市芙蓉区农大路1号
代理机构 :
长沙和雅知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
林传贵
优先权 :
CN201920951258.8
主分类号 :
C02F1/48
IPC分类号 :
C02F1/48  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F1/00
水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先)
C02F1/48
用磁场或电场的
法律状态
2022-05-27 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C02F 1/48
申请日 : 20190621
授权公告日 : 20200710
终止日期 : 20210621
2020-07-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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