一种印染废水的深度处理装置
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摘要

本实用新型公开了一种印染废水的深度处理装置,包括中间水池,中间水池通过管道与磁混凝反应池相连,磁混凝反应池内部通过预留孔相连,磁混凝反应池通过管道与高效沉淀池相连,高效沉淀池处理后污水通过管道外排;污泥回流系统通过水泵和管道将高效沉淀池底部的污泥打入磁混凝反应池;磁粉回收系统通过管道和水泵将高效沉淀池底部的部分污泥打入磁泥剪切装置、磁粉水力回收机、磁粉水力回收机,回收的磁粉通过重力在冲洗水的冲洗下进入磁混凝反应池。本实用新型的一种印染废水的深度处理装置,针对不同的印染废水特征,通过不同的加药组合,可以实现污水的去除COD、脱色、去除悬浮物等目的,达到排放标准,并且整个装置占地面积小,运行成本低。

基本信息
专利标题 :
一种印染废水的深度处理装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920987576.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-28
授权号 :
CN210457809U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
姚俊朝陈琴波
申请人 :
天津大拇指环境工程有限公司
申请人地址 :
天津市武清区开发区福源道北侧创业总部基地C04号楼462室
代理机构 :
天津协众信创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
刘斌
优先权 :
CN201920987576.X
主分类号 :
C02F9/12
IPC分类号 :
C02F9/12  C02F103/30  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C02
水、废水、污水或污泥的处理
C02F
水、废水、污水或污泥的处理
C02F9/00
水、废水或污水的多级处理
C02F9/08
至少有一个物理处理步骤
C02F9/12
用电场或磁场辐射或处理
法律状态
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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