印染废水深度处理系统

授权

摘要

本实用新型公开一种印染废水深度处理系统。包括调节池、高级氧化池、酸解池、曝气滤池和清水池。废水经调节池调节水质和水量，然后进入高级氧化池去除难降解有机污染物等，提高B/C比，再进入酸解池进一步去除难降解有机污染物等，再经曝气滤池有效去除易降解有机污染物，最后经沉淀和过滤后达标排放。

基本信息

专利标题：

印染废水深度处理系统

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921864860.4

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-10-31

授权号：

CN211111591U

授权日：

2020-07-28

发明人：

王皖蒙

申请人：

中冶华天工程技术有限公司;中冶华天南京工程技术有限公司

申请人地址：

安徽省马鞍山市湖南西路699号

代理机构：

北京中伟智信专利商标代理事务所(普通合伙)

代理人：

张岱

优先权：

CN201921864860.4

主分类号：

C02F9/14

IPC分类号：

C02F9/14 C02F11/12 C02F101/30 C02F103/30