基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置和原子磁力仪
授权
摘要

本实用新型公开一种基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置,采用机械切割键合平台和加工键合模具相结合,精确确定构成Herriott腔的两柱面镜间距离以及两主轴间相对转角。通过机械加工出陶瓷模具,保证两柱面镜之间的相对位置以及在硅片上的绝对位置。误差完全由机械加工控制,避免人工胶粘或者人工调节等因素造成的不确定性带来的影响。并将阳极键合的方法应用于腔镜与硅片的固定以及玻璃气室与硅片的密封。避免因人工胶粘引起的不稳定以及误差的不可控性以及胶水与后续充入的原子可能进行的反应。实现标准化批量化制备且提高稳定性。本实用新型还提供一种采用上述基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置制成的原子气室的原子磁力仪。

基本信息
专利标题 :
基于键合多反射腔的原子气室标准制作装置和原子磁力仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201920996904.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-06-28
授权号 :
CN210465663U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
蔡波盛东
申请人 :
中国科学技术大学
申请人地址 :
安徽省合肥市包河区金寨路96号
代理机构 :
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 :
张博
优先权 :
CN201920996904.2
主分类号 :
G01R33/032
IPC分类号 :
G01R33/032  G01R33/00  B81C3/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/02
测量磁场或磁通量的方向或大小
G01R33/032
采用磁—光设备,例如法拉第的
法律状态
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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