电镀光剂添加装置及系统
授权
摘要

电镀PCB板工艺中,当光剂的浓度不稳定时会对生产的PCB存在严重的品质隐患。基于此,本实用新型提供一种电镀光剂添加装置及系统,包括铜缸及添加槽,其中,光剂添加系统中的铜缸及添加槽可以为一一对应的多个,铜缸与添加槽之间连接有管道,管道上安装有添加泵,电镀光剂添加装置或装置中设置有计量模块,计量模块与铜缸和添加泵连接,其中,计量模块用于计量铜缸电镀时消耗的电量,并在铜缸的电镀电量消耗达到设定的阈值时,向添加泵发送打开的信号,添加泵接收到打开的信号后打开,进而实现添加槽向铜缸自动添加光剂。本实用新型可以有效保证铜缸内光剂的浓度稳定,确保生产的PCB品质。

基本信息
专利标题 :
电镀光剂添加装置及系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921062723.9
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-09
授权号 :
CN211079394U
授权日 :
2020-07-24
发明人 :
崔蜀巍王兴文
申请人 :
深圳中富电路股份有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区沙井街道和一社区和二工业区兴业路8号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921062723.9
主分类号 :
C25D21/14
IPC分类号 :
C25D21/14  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/12
工艺控制或调节
C25D21/14
电解液组分的控制添加
法律状态
2020-07-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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