一种电镀自动添加系统
专利权的终止
摘要
本实用新型公开了一种电镀自动添加系统,涉及电镀自动添加系统技术领域,包括外仓,所述外仓内部底部的两侧设置有伸缩杆,所述伸缩杆的外侧套设有第一弹簧,所述伸缩杆的顶部设置有电镀仓,所述电镀仓一侧的顶部设置有第二进液口,所述电镀仓顶部的一侧设置有按压组件,所述外仓靠近按压组件一侧的侧壁上设置有第一进液口,所述外仓靠近第二进液口一侧的顶部设置有储液仓,所述储液仓靠近外仓一侧的侧壁上设置有控液组件。该电镀自动添加系统通过外仓将电镀溶液注入储液仓中储存,通过电机、旋转杆与搅拌叶的共同配合,对储液仓中的溶液进行搅拌,使溶液中的化学药剂充分融合,防止化学药剂产生沉淀,提高电镀效果。
基本信息
专利标题 :
一种电镀自动添加系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921752918.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-10-18
授权号 :
CN210657211U
授权日 :
2020-06-02
发明人 :
王国洪
申请人 :
中山市莹轩金属表面处理有限公司
申请人地址 :
广东省中山市三角镇古河街3号1栋二楼四车间
代理机构 :
北京八月瓜知识产权代理有限公司
代理人 :
李斌
优先权 :
CN201921752918.6
主分类号 :
C25D21/14
IPC分类号 :
C25D21/14 C25D21/10 C25D17/00
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C25
电解或电泳工艺;其所用设备
C25D
覆层的电解或电泳生产工艺方法;电铸;工件的电解法接合;所用的装置
C25D21/00
电解镀覆用电解槽的维护或操作方法
C25D21/12
工艺控制或调节
C25D21/14
电解液组分的控制添加
法律状态
2021-10-01 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : C25D 21/14
申请日 : 20191018
授权公告日 : 20200602
终止日期 : 20201018
申请日 : 20191018
授权公告日 : 20200602
终止日期 : 20201018
2020-06-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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