清洁装置以及晶圆处理设备
授权
摘要
该实用新型涉及一种清洁装置以及晶圆处理设备，其中所述清洁装置，内置有气体腔，用于存储清洁气体，且所述清洁装置表面设置有气孔，与所述气体腔连通，用于供所述气体腔内存储的清洁气体喷出，且所述气孔设置有开关，用以在所述气体腔和外界的压差大于一第一预设阈值时打开。所述清洁装置以及晶圆处理设备具有所述气体腔和所述气孔，以及具有开关，只有在所述气体腔和外界的压差大于一第一预设阈值时打开，因此保证了所述清洁装置在喷出清洁气体时有一定的清洁力度，从而保证了清洁效果。
基本信息
专利标题 ：
清洁装置以及晶圆处理设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921106424.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-15
授权号 ：
CN210253370U
授权日 ：
2020-04-07
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
长鑫存储技术有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市蜀山区经济技术开发区翠微路6号海恒大厦630室
代理机构 ：
上海盈盛知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
孙佳胤
优先权 ：
CN201921106424.0
主分类号 ：
B08B5/02
IPC分类号 ：
B08B5/02 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B5/00
利用空气流动或气体流动的清洁方法
B08B5/02
用喷气力来清洁，如吹清凹处
法律状态
2020-04-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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