一种PECVD设备内壁污染保护装置
授权
摘要
本实用新型公开一种PECVD设备内壁污染保护装置，涉及真空镀膜领域，所述PECVD设备内壁污染保护装置包括：铁磁性钢条，所述铁磁性钢条固定安装于PECVD设备的真空罐体内壁；铝箔，所述铝箔铺设于铁磁性钢条的表面，并通过若干耐高温磁铁与铁磁性钢条相连；耐高温磁铁，所述耐高温磁铁与铁磁性钢条吸附配合，并将铝箔夹设于二者之间。本实用新型通过在真空罐体内壁安装铁磁性钢条，将同样放气量小的铝箔作为衬里，并以耐高温磁铁来压附铝箔，可在保证良好的导电性的同时有效阻隔污染物，从而保护真空罐体内壁；本实用新型装置成本低廉、操作方便，适用于批量化生产的PECVD设备中。
基本信息
专利标题 ：
一种PECVD设备内壁污染保护装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921111597.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-16
授权号 ：
CN210314477U
授权日 ：
2020-04-14
发明人 ：
李灿民陶满李亚军张胜利
申请人 ：
合肥永信信息产业股份有限公司
申请人地址 ：
安徽省合肥市庐阳区阜南路169号
代理机构 ：
合肥兴东知识产权代理有限公司
代理人 ：
王伟
优先权 ：
CN201921111597.1
主分类号 ：
C23C16/44
IPC分类号 ：
C23C16/44
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
法律状态
2020-04-14 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
