冷却降温装置及包含该冷却降温装置的化学气相沉积设备
专利申请权、专利权的转移
摘要

一种冷却降温装置及包含该冷却降温装置的化学气相沉积设备,其包括用于冷却气体流入的入口、与所述入口连通的绕流腔体、位于所述绕流腔体内的均匀化隔板以及用于所述冷却气体流出的出口;所述均匀化隔板将所述绕流腔体分隔成第一腔体以及第二腔体,所述均匀化隔板设有连通所述第一腔体与所述第二腔体的若干通孔,所述若干通孔至少包括靠近所述入口的第一通孔以及远离所述入口的第二通孔,其中所述第一通孔的面积小于所述第二通孔的面积。相较于现有技术,本实用新型通过优化均匀化隔板上第一、第二通孔的大小和位置分布,最终使冷却气体从出口流出绕流腔体时,在不同位置的出口的流量基本一致,从而起到均匀冷却气体的作用。

基本信息
专利标题 :
冷却降温装置及包含该冷却降温装置的化学气相沉积设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921153917.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-22
授权号 :
CN210529054U
授权日 :
2020-05-15
发明人 :
张建飞王凯何宝东宋文庆
申请人 :
苏州沃盾纳米科技有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市昆山市花桥镇金洋路15号1号楼
代理机构 :
苏州佳博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
罗宏伟
优先权 :
CN201921153917.X
主分类号 :
C23C16/448
IPC分类号 :
C23C16/448  C23C16/44  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/448
产生反应气流的方法,例如通过母体材料的蒸发或升华
法律状态
2021-02-26 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : C23C 16/448
登记生效日 : 20210208
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 苏州沃盾纳米科技有限公司
变更后权利人 : 立讯电子科技(昆山)有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 215300 江苏省苏州市昆山市花桥镇金洋路15号1号楼
变更后权利人 : 215324 江苏省苏州市昆山市锦溪镇锦昌路158号
2020-05-15 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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