一种评价及校准轮廓测试仪器深沟槽测量能力的校准样件
授权
摘要
本实用新型公开了一种评价和校准轮廓测试仪器深沟槽测量能力的校准样件,包括基片、标准深沟槽结构以及解理引导结构;所述标准深沟槽结构由一系列平行放置、深度相同的分析沟槽组成;所述解理引导结构位于所述标准深沟槽结构两侧,可以是六面形、三角形、矩形或其组合形状,中轴线位于同一直线上,垂直于标准深沟槽结构长度方向。解理引导结构的加入可辅助剖面制样,将校准样件沿预定位置进行解理,将垂直方向的沟槽结构测量转换为水平方向的剖面结构测量,便于获得更为精确的深沟槽几何参数,实现对表面轮廓测量仪器的深沟槽测量能力的评价和校准;也使得深沟槽结构的测量不仅限于硅基材料,也适用于与非晶材料。
基本信息
专利标题 :
一种评价及校准轮廓测试仪器深沟槽测量能力的校准样件
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921171165.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-07-24
授权号 :
CN210221001U
授权日 :
2020-03-31
发明人 :
金光国赵梁玉
申请人 :
苏州麦田光电技术有限公司
申请人地址 :
江苏省苏州市工业园区宏业路111号
代理机构 :
哈尔滨市伟晨专利代理事务所(普通合伙)
代理人 :
陈润明
优先权 :
CN201921171165.X
主分类号 :
G01B11/24
IPC分类号 :
G01B11/24
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/24
用于计量轮廓或曲率
法律状态
2020-03-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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