透射阵紧缩场装置
授权
摘要
本实用新型公开一种透射阵紧缩场装置。该实用新型的具体实施方式包括：馈源和透射阵天线，透射阵天线包括至少一个透射阵面，透射阵面的介质衬底表面阵列排布有多个透射阵单元，所述至少一个透射阵面的焦点位置相同且所述至少一个透射阵面的中心投影重叠；馈源置于焦点位置并垂直照射所述至少一个透射阵面的中心。该装置在波束固定馈源照射的幅度约束下，通过口径的透射传输相位的优化控制，在口径的近场菲涅耳辐射区综合出期望的平面波静区场。该实施方式的透射阵紧缩场装置采用印刷电路结构、工艺简单、便于安装运输，可以降低制造成本，适合于满足低成本实现的应用场景。
基本信息
专利标题 ：
透射阵紧缩场装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921171296.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-24
授权号 ：
CN210576419U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
李志平覃媛媛王正鹏武建华
申请人 ：
北京航空航天大学
申请人地址 ：
北京市海淀区学院路37号
代理机构 ：
北京正理专利代理有限公司
代理人 ：
付生辉
优先权 ：
CN201921171296.8
主分类号 ：
H01Q1/36
IPC分类号 ：
H01Q1/36 H01Q21/00 H01Q1/38
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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