一种均匀镀膜的无尘镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种均匀镀膜的无尘镀膜装置，包括无尘镀膜室、第一输送皮带、固定贴膜台、无尘镀膜机体和第二输送皮带，所述无尘镀膜机体的上方的中间位置安装有无尘镀膜室，所述无尘镀膜室的上方安装有密封罩，所述无尘镀膜室的内部的上方安装有上压膜辊，所述上压膜辊的上方安装有支撑架，所述无尘镀膜室的两侧的一端安装有保护膜变向杆，所述无尘镀膜室的内部的两端安装有固定槽口，所述无尘镀膜室的一侧的中间位置安装有观察窗口。本实用新型的无尘镀膜室的上方安装有密封罩，通过密封罩可以将无尘镀膜室进行密封，形成一个无尘的空间，防止揭膜的过程中，细小的灰尘进入液晶面板中，从而减少膜的损坏。
基本信息
专利标题 ：
一种均匀镀膜的无尘镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921190550.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210634242U
授权日 ：
2020-05-29
发明人 ：
黄国兴万志
申请人 ：
赫得纳米科技（黄石）有限公司
申请人地址 ：
湖北省黄石市经济技术开发区马垅畈路8号
代理机构 ：
武汉国越知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
张熔舟
优先权 ：
CN201921190550.9
主分类号 ：
B32B37/12
IPC分类号 ：
B32B37/12 B32B37/10
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B32
层状产品
B32B
层状产品，即由扁平的或非扁平的薄层，例如泡沫状的、蜂窝状的薄层构成的产品
B32B37/00
用于层压的方法和装置，例如，通过固化或通过超声黏接
B32B37/12
以使用黏合剂为特征的
法律状态
2020-05-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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