具有两级位姿调整功能的均匀分块高精度副反射面装置
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摘要
本实用新型公开了一种具有两级位姿调整功能的均匀分块高精度副反射面装置，它涉及通信、测控以及射电天文等领域。本实用新型副反射面装置包括调整装置、副反射面、单层空间背架和面板精调装置。调整装置采用动、定平台为平面桁架的多杆六自由度副面调整机构，实现对副反射面的初级位姿调整；副反射面由均匀分块的一个多边形面板和若干个扇形面板组成；单层空间背架的内外边数为1比2形式，为副反射面提供结构支撑；面板精调装置实现对副反射面的次级位姿调整。这种装置不仅能够实现副反射面的两级位姿调整，而且能够提高副反射面的整体刚度，减小整体重量，同时能够提升安装调整效率和提高调整精度。
基本信息
专利标题 ：
具有两级位姿调整功能的均匀分块高精度副反射面装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921192646.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-26
授权号 ：
CN210040562U
授权日 ：
2020-02-07
发明人 ：
刘国玺杨文宁杜彪郑元鹏伍洋宁晓磊赵均红杨晋蓉陈隆刘胜文
申请人 ：
中国电子科技集团公司第五十四研究所
申请人地址 ：
河北省石家庄市中山西路589号中国电子科技集团公司第五十四研究所天线伺服专业部
代理机构 ：
河北东尚律师事务所
代理人 ：
王文庆
优先权 ：
CN201921192646.9
主分类号 ：
H01Q15/16
IPC分类号 ：
H01Q15/16
法律状态
2020-02-07 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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