一种研磨盘清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种研磨盘清洗装置，应用于清洗研磨盘，包括上板、下板和清洗槽，所述上板和下板之间通过支撑柱连接，所述上板朝下安装有第一转动组件，所述第一转动组件的转动杆用于安装所述研磨盘，所述下板上设有伸缩组件，所述伸缩组件朝上设有伸缩杆，所述清洗槽设置在所述伸缩杆的顶部，所述清洗槽的开口朝上设置，所述清洗槽内设有清洗液，所述清洗液用于溶解所述研磨盘上的抛光皮，所述伸缩组件用于改变所述清洗槽的高度，使所述研磨盘浸入或脱离所述清洗液。采用将研磨盘浸入清洗液，即可使抛光皮产生一定的溶解，再转动研磨盘即可使抛光皮快速脱除，实现去除抛光皮的效果，大大降低了人力，提高了去除效率。
基本信息
专利标题 ：
一种研磨盘清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921230506.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-07-31
授权号 ：
CN210847432U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
田超
申请人 ：
重庆两江联创电子有限公司
申请人地址 ：
重庆市北碚区丰和路267号
代理机构 ：
北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
何世磊
优先权 ：
CN201921230506.6
主分类号 ：
B08B3/10
IPC分类号 ：
B08B3/10
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的，如用加热，电力，振动
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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