一种具有深纹路结构的烫印膜和烫印结构

专利申请权、专利权的转移

摘要

一种具有深纹路结构的烫印膜和烫印结构，涉及防伪技术领域。具有深纹路结构的烫印膜包括依次叠加设置的基膜层、紫外线固化层、成像层和胶层，紫外线固化层贴合成像层的表面具有深度为1～5μm的深纹路结构，成像层贴合紫外线固化层的表面复制深纹路结构，紫外线固化层与成像层之间的剥离值为0.1～0.65N/cm。烫印结构是将烫印膜烫印于基材上，并剥离基膜层和紫外线固化层得到。示例中的具有深纹路结构的烫印膜和烫印结构，结构简单，烫印立体效果好，防伪性能佳。

基本信息

专利标题：

一种具有深纹路结构的烫印膜和烫印结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921277913.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-07

授权号：

CN210970393U

授权日：

2020-07-10

发明人：

杨兴国徐晓光魏家新鲁琴陈顺琴张红路

申请人：

武汉华工图像技术开发有限公司

申请人地址：

湖北省武汉市东湖新技术开发区华工科技园内

代理机构：

北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)

代理人：

杨勋

优先权：

CN201921277913.2

主分类号：

B41M3/14

IPC分类号：

B41M3/14 B44C1/17

IPC结构图谱

B部——作业；运输

B41

印刷；排版机；打字机；模印机

B41M

印刷、复制、标记或拷贝工艺；彩色印刷

B41M3/00

生产特殊品种印刷品的印刷过程，例如图画

B41M3/14

证券印刷

法律状态

2021-12-31 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移IPC(主分类) : B41M 3/14
登记生效日 : 20211220
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 武汉华工图像技术开发有限公司
变更后权利人 : 武汉华工图像技术开发有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区华工科技园内
变更后权利人 : 430000 湖北省武汉市华工科技园内
变更事项 : 专利权人
变更后权利人 : 上海华工艾马尔新材料有限公司

2020-07-10 ：

授权

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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