一种电子枪高压防打火屏蔽罩
授权
摘要
本实用新型公布了一种电子枪高压防打火屏蔽罩，包括第一屏蔽罩和第二屏蔽罩，所述第一屏蔽罩和所述第二屏蔽罩以可拆卸方式固定在所述电子枪上，所述第一屏蔽罩包括第一主罩体、第一右侧罩体和第一后侧罩体。本实用新型的屏蔽罩采用不锈钢材料制备而成，结构稳固，屏蔽效果好，而且屏蔽罩以可拆卸方式固定在箱式真空镀膜机上，方便安装和检修，而且相配合的两个罩体设置相切合的凹槽和透线孔，不影响真空镀膜机的正常运行，解决了真空镀膜机在镀膜过程中有粉末飞到高压电极时高压容易打火，高压与离子源容易相互干扰也容易引起打火的技术问题。
基本信息
专利标题 ：
一种电子枪高压防打火屏蔽罩
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921287617.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-09
授权号 ：
CN210287517U
授权日 ：
2020-04-10
发明人 ：
陈基平陈宏忠
申请人 ：
福建科彤光电技术有限公司
申请人地址 ：
福建省福州市晋安区福光路71号(福兴经济开发区)
代理机构 ：
福州盈创知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
余宏鹏
优先权 ：
CN201921287617.0
主分类号 ：
C23C14/56
IPC分类号 ：
C23C14/56
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/56
连续镀覆的专用设备；维持真空的装置，例如真空锁定器
法律状态
2020-04-10 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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