上下料设备及其载具循环机构
授权
摘要
本实用新型公开一种上下料设备及其载具循环机构，载具循环机构包括第一传送组件、第二传送组件、第三传送组件和平移组件，第一传送组件和第三传送组件并排设置且传送方向相反，平移组件驱动第二传送组件运动，以使第二传送组件与第一传送组件对接，并接收第一传送组件传送而来的载具；或使第二传送组件与第三传送组件对接，以将第二传送组件接收的载具传送至第三传送组件上，第三传送组件将接收的载具传送出去。通过设置平移组件，利用第二传送组件接取位于第一传送组件上的载具，并将载具转运至第三传送组件上，实现载具的循环传送，提高工作效率。
基本信息
专利标题 ：
上下料设备及其载具循环机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921313685.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-13
授权号 ：
CN210223986U
授权日 ：
2020-03-31
发明人 ：
不公告发明人
申请人 ：
无锡先导智能装备股份有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新锡路20号
代理机构 ：
深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
袁江龙
优先权 ：
CN201921313685.X
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677 H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2020-03-31 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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