散热装置、射频拉远单元、基带处理单元和基站

授权

摘要

本实用新型的实施例提供了一种散热装置、射频拉远单元、基带处理单元和基站。根据一个实施例，所述散热装置包括底座，和在底座上并行设置的多个第一散热齿。在多个第一散热齿中的每个第一散热齿的顶部，沿多个第一散热齿的并行方向依次设置有第一散热组件和第二散热组件。第一散热组件包括底板，以及在底板的顶面上沿所述并行方向间隔设置的多个第二散热齿。每个第二散热齿呈梳状且梳齿的数量为三个以上。第二散热组件包括沿所述并行方向间隔设置的多个第三散热齿。每个第三散热齿呈梳状且梳齿的数量为三个以上。

基本信息

专利标题：

散热装置、射频拉远单元、基带处理单元和基站

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921344526.6

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-19

授权号：

CN210381763U

授权日：

2020-04-21

发明人：

熊海刚杨凯肖波黄梦宇

申请人：

瑞典爱立信有限公司

申请人地址：

瑞典斯德哥尔摩

代理机构：

北京市中咨律师事务所

代理人：

于静

优先权：

CN201921344526.6

主分类号：

H05K7/20

IPC分类号：

H05K7/20