一种金属图形化的剥离结构

授权

摘要

本申请公开了一种金属图形化的剥离结构，包括衬底；位于衬底上表面的胶膜结构层，且胶膜结构层具有一级向上的第一台阶；位于胶膜结构层背离衬底的表面的第一光刻胶层，且第一光刻胶层与胶膜结构层形成一级向上的第二台阶。本申请中由衬底、胶膜结构层、第一光刻胶层共同形成了具有两级向上的台阶结构的剥离结构，也即该剥离结构具有两层屋檐结构，一方面增加了衬底上表面与第一光刻胶层上表面之间的距离，可用于沉积厚度较厚的图形化金属，另一方面两层屋檐结构的宽度可以按需求进行调节，使得到的图形化金属宽度更窄，且胶膜结构层和第一光刻胶层更加稳固，不易塌陷，从而使得到的图形化金属边缘光滑。

基本信息

专利标题：

一种金属图形化的剥离结构

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921366070.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-21

授权号：

CN210575829U

授权日：

2020-05-19

发明人：

甘先锋杨水长

申请人：

无锡英菲感知技术有限公司

申请人地址：

江苏省无锡市新吴区菱湖大道200号中国传感网国际创新园A502

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司

代理人：

田媛媛

优先权：

CN201921366070.3

主分类号：

H01L21/027

IPC分类号：

H01L21/027 H01L21/3213