用于施加薄膜涂层的真空设备
授权
摘要
本实用新型提供一种用于施加薄膜涂层的真空设备，其包括安装在框架上并且设置有技术装置的至少一个处理室；安装在运输系统上的至少一个负载锁定室，所述运输系统配置为将负载锁定室从装载/卸载位置移动到处理室下方的操作位置；基板保持架，其用于将基板定位在其上以施加薄膜涂层，所述基板保持架可以绕其轴线旋转；用于将基板保持架从负载锁定室转移到处理室的进给装置；真空门，其位于所述处理室和负载锁定室之间并且配置为将所述负载锁定室和处理室的内部空间分开；以及处理和负载锁定室对接装置；其中，在处理室的上部安装有夹具，其配置为在基板表面处理期间将基板保持架固定在处理室的内部空间内并且使基板保持架绕其轴线旋转。
基本信息
专利标题 ：
用于施加薄膜涂层的真空设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921386722.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-23
授权号 ：
CN211284525U
授权日 ：
2020-08-18
发明人 ：
亚乌根·艾雷克斯纳德维奇·克哈克卢坎斯坦钦·耶夫根尼耶维奇·米亚斯尼库林星龙
申请人 ：
伊扎维克技术有限责任公司
申请人地址 ：
白俄罗斯明斯克市
代理机构 ：
北京金信知识产权代理有限公司
代理人 ：
王智
优先权 ：
CN201921386722.X
主分类号 ：
C23C14/50
IPC分类号 ：
C23C14/50 C23C14/56
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/50
基座
法律状态
2020-08-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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