一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置

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摘要

本实用新型公开了一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，包括机体、伺服电机和固定架，所述机体的下端内部开设有滑槽，且机体的左侧安装有伺服电机，所述伺服电机的右侧设置有传动杆，且传动杆的右端连接有主动锥齿轮，所述主动锥齿轮的前侧安装有传动锥齿轮，所述从动杆的后端安装有圆盘，所述毛刷的上方安装有伸缩杆，且伸缩杆的上端设置在套筒的内部，所述压杆的左侧连接有复位弹簧，所述套筒连接在齿块的下端，且齿块的内部设置有不完全齿轮。该便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置，能够对负离子瓷砖表面进行均匀涂抹，提高负离子瓷砖的生产效率，能够对不同厚度的负离子瓷砖进行涂料，提高施釉装置的适用性。

基本信息

专利标题：

一种便于均匀涂抹的负离子瓷砖生产用施釉装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921393504.9

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-26

授权号：

CN210651227U

授权日：

2020-06-02

发明人：

刘春良

申请人：

江西格仕祺陶瓷有限公司

申请人地址：

江西省宜春市高安市省建筑陶瓷产业基地

代理机构：

南昌市赣昌知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

刘鸿运

优先权：

CN201921393504.9

主分类号：

B28B11/04

IPC分类号：

B28B11/04