一种能够均匀施釉的负离子瓷砖淋釉装置

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摘要

本实用新型公开了一种能够均匀施釉的负离子瓷砖淋釉装置，包括料仓、主轴、密封板和螺纹孔，所述料仓的前后两侧均螺钉安装有支撑管，且支撑管的下方末端设置有支撑腿，所述料仓的下方开设有出料口，且出料口的中部贯穿安装有主轴，所述出料口通过连接块安装有分流块，且分流块的下方设置有分流板，所述分流块的前后两侧均开设有螺纹孔。该能够均匀施釉的负离子瓷砖淋釉装置设置有矩形结构的出料口，采用矩形结构的设计，使得当料仓内部的压力稳定时，料仓内部的釉料便会均匀的从出料口中排出，从而对下方的物体进行均匀的淋湿，同时当出料口的内部宽度趋于“0”时，就能直接对工件进行淋釉，极大的增加了装置的实用性。

基本信息

专利标题：

一种能够均匀施釉的负离子瓷砖淋釉装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921394298.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-26

授权号：

CN210758349U

授权日：

2020-06-16

发明人：

刘春良

申请人：

江西格仕祺陶瓷有限公司

申请人地址：

江西省宜春市高安市省建筑陶瓷产业基地

代理机构：

南昌市赣昌知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

刘鸿运

优先权：

CN201921394298.3

主分类号：

B28B11/04

IPC分类号：

B28B11/04