本实用新型公开了一种负离子瓷砖的淋釉装置,包括支撑架，所述支撑架的右侧面固定连接有支撑板，所述支撑板的内部固定连接有料斗，所述料斗的下表面固定连接有泵体，所述泵体的出料端固定连接有出釉口，所述出釉口的下表面固定连接有遮釉罩，所述遮釉罩的内部固定连接有淋釉盘，所述支撑架的右侧面且位于支撑板的下方固定连接有传送装置，所述传送装置的上表面活动连接有瓷砖本体，所述传送装置的下表面固定连接有回收装置，所述回收装置的内部固定连接有过滤板。本实用新型，增加了搅拌轴结构，使得釉液时刻处于搅拌中得状态，使釉液更加均匀，且使得釉液的溶解度较大，避免了釉液的沉淀，从而使装置堵塞，耽误工时。