一种去除氧化层的清洗装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种去除氧化层的清洗装置包括机架、料仓、清洗机构和输送机构。料仓被配置为存放多个待清洗片，多个待清洗片层叠放置，清洗机构设在机架上，清洗机构包括间隔开设置的两个激光清洗模块，两个激光清洗模块可分别清洗待清洗片的正反两面，输送机构设在机架上，输送机构被配置为将待清洗片输送至清洗机构。输送机构包括推料模块、转向模块和输送模块。推料模块被配置为将待清洗片推出料仓且运动至转向模块，转向模块被配置带动待清洗片由水平状态转动至竖直状态且止抵在输送模块上，输送模块设在机架上，输送模块可将处于竖直状态的待清洗片输送至清洗机构。该清洗装置的清洗效果较好，且清洗效率较高。
基本信息
专利标题 ：
一种去除氧化层的清洗装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921407541.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-26
授权号 ：
CN210546801U
授权日 ：
2020-05-19
发明人 ：
励建炬李成苏杰
申请人 ：
深圳市科达利实业股份有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区沙河西路1809号深圳湾科技生态园11栋A座27层
代理机构 ：
北京品源专利代理有限公司
代理人 ：
胡彬
优先权 ：
CN201921407541.0
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B08B13/00
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2020-05-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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