一种大高度二级升降舞台
授权
摘要
本实用新型提供一种大高度二级升降舞台，涉及舞台设备技术领域，包括第一底架、第二底架以及升降架，升降架和第一底架之间设置有第一阶架，升降架和第二底架之间设置有第二阶架，第一底架设置有第一升降辊，第一阶架设置有第二升降辊，第二阶架设置有第三升降辊，第二底架设置有第四升降辊，第一阶架底端设置有第一引导辊，第二阶架底端设置有第二引导辊，升降架底端设置有固定引导辊，第一底架上设置第一拉绳，第二底架上设置有第二拉绳。本实用新型一种大高度二级升降舞台结构简单，升降可控，升降距离大，稳定程度高，平时隐藏在舞台下，节约空间，使用时升起，并可以在各种规格的舞台区域搭建。
基本信息
专利标题 ：
一种大高度二级升降舞台
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921410033.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-28
授权号 ：
CN211037984U
授权日 ：
2020-07-17
发明人 ：
杨全明
申请人 ：
杭州友邦演艺设备有限公司
申请人地址 ：
浙江省杭州市滨江区长河街道滨和路998号中赢国际商务大厦1702室
代理机构 ：
浙江千克知识产权代理有限公司
代理人 ：
裴金华
优先权 ：
CN201921410033.8
主分类号 ：
E04H3/26
IPC分类号 ：
E04H3/26
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E04
建筑物
E04H
专门用途的建筑物或类似的构筑物；游泳或喷水浴槽或池；桅杆；围栏；一般帐篷或天篷
E04H3/00
公共的或类似用途的建筑物或建筑群；公共机构，例如，诊所，监狱
E04H3/10
供集会，娱乐或体育用的
E04H3/22
剧院，音乐厅；扩音室，电影摄影棚，电视摄影棚或类似建筑
E04H3/24
舞台的结构特征
E04H3/26
转台；能下降的舞台
法律状态
2020-07-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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