一种地下结构的水平拓建结构
授权
摘要
本实用新型属于地下结构工程技术领域,具体涉及一种地下结构的水平拓建结构,包括围护结构、主体结构和支护结构;所述主体结构部分位于地面满足施工要求区域的下方,部分位于地面不满足施工要求区域的下方;所述主体结构位于地面满足施工要求区域下方的部分的两侧均设有围护结构;所述主体结构位于地面不满足施工要求区域下方的部分的上侧和下侧均沿地面不满足施工要求区域的周边设有围护结构;所述主体结构位于地面不满足施工要求区域下方的部分的外侧设有支护结构。本实用新型可以在不拆除部分地面结构条件下,利用地面满足施工要求区域,进行地面不满足施工要求区域下方的土体开挖和主体结构施工,降低施工难度,缩短施工工期。
基本信息
专利标题 :
一种地下结构的水平拓建结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921411541.8
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-28
授权号 :
CN211143079U
授权日 :
2020-07-31
发明人 :
邓朝辉肖明清李达蒋超
申请人 :
中铁第四勘察设计院集团有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市武昌杨园和平大道745号
代理机构 :
北京汇泽知识产权代理有限公司
代理人 :
吴静
优先权 :
CN201921411541.8
主分类号 :
E02D17/02
IPC分类号 :
E02D17/02 E02D17/04 E02D29/045 E02D19/06
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D17/00
挖方;挖方边缘的修砌;填方
E02D17/02
基础坑
法律状态
2020-07-31 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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