一种基坑围护结构水平位移监测系统
授权
摘要

本申请涉及一种基坑围护结构水平位移监测系统,其包括第一围护结构、第二围护结构和用于测量各测点水平位移值的相对位移测量装置,相对位移测量装置包括设置在第一围护结构顶部侧壁上的第一激光测距传感器和沿竖直方向设置在第二围护结构侧壁的若干个位移反光机构,所述位移反光机构包括设置在第二围护结构侧壁上的安装板、与安装板铰接的调节板和用于调节安装板和调节板之间角度的调节机构。本申请具有通过调节机构来调节安装板和调节板之间的角度,使得位移反光机构不仅具备反光功能,还同时具有角度调节功能,节省了安装位移反光机构时需要额外借助其他垫块来调节角度的步骤,使安装更加方便。

基本信息
专利标题 :
一种基坑围护结构水平位移监测系统
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202122339886.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-09-24
授权号 :
CN216206044U
授权日 :
2022-04-05
发明人 :
王晓明马超顾全民胡金树盛国文郑超曾威陈国兵郑学军
申请人 :
浙江省浙南综合工程勘察测绘院有限公司
申请人地址 :
浙江省杭州市西湖区古墩路673号瑞博国际科技大厦A座14楼
代理机构 :
北京维正专利代理有限公司
代理人 :
赵振祥
优先权 :
CN202122339886.0
主分类号 :
G01B11/02
IPC分类号 :
G01B11/02  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01B
长度、厚度或类似线性尺寸的计量;角度的计量;面积的计量;不规则的表面或轮廓的计量
G01B11/00
以采用光学方法为特征的计量设备
G01B11/02
用于计量长度、宽度或厚度
法律状态
2022-04-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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