一种基坑水平位移监测装置

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摘要

本实用新型涉及工程测量技术领域，公开了一种基坑水平位移监测装置，包括第一壳体、监测板、移动机构、位移测量机构、光敏传感器以及控制器，所述监测板位于所述第一壳体上，所述移动机构和所述位移测量机构与所述第一壳体相连接，所述光敏传感器设于所述监测板上，所述移动机构和所述光敏传感器分别与所述控制器电性连接。可利用所述监测板获取激光垂准仪向下发射垂直的激光，利用所述光敏传感器自动获取激光的中心点，所述移动机构使得所述光敏传感器与激光的中心点重合，所述位移测量机构获取该点的深层水平位移形变量，实现可直接安装到监测点上，无需进行钻孔埋设或者预埋设。

基本信息

专利标题：

一种基坑水平位移监测装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202020137761.2

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-01-20

授权号：

CN212001306U

授权日：

2020-11-24

发明人：

伍四明吴龙飞刘国超

申请人：

广州市城市规划勘测设计研究院

申请人地址：

广东省广州市越秀区建设大马路10号

代理机构：

广州三环专利商标代理有限公司

代理人：

黄华莲

优先权：

CN202020137761.2

主分类号：

E02D33/00

IPC分类号：

E02D33/00 E02D17/02