基坑水平位移监测装置
授权
摘要

本实用新型涉及基坑监测领域,尤其涉及一种基坑水平位移监测装置,包括安装结构、激光测距装置、角度测量装置和激光标靶。安装结构包括基座和安装架,基座设置于基坑的冠梁上,安装架角度可调地设置于基座上;激光测距装置设置于安装架上;角度测量装置用于测量安装架的倾斜角度;激光标靶设置于基坑的影响范围外,用于反射激光测距装置发射的激光。本实用新型中,激光测距装置测得其与激光标靶的距离,角度测量装置实时测量激光测距装置的倾斜角度,由此便可计算出激光测距装置与激光标靶的水平距离。将计算得到的水平距离与初始的水平距离比较,便可得出基坑的水平位移,实现基坑水平位移的实时测量,结构简单,操作方便,测量误差小。

基本信息
专利标题 :
基坑水平位移监测装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020864673.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-21
授权号 :
CN212477846U
授权日 :
2021-02-05
发明人 :
黄文德彭炎华李彬杨家生张伟严云赵峰谭懿行
申请人 :
广州市吉华勘测股份有限公司
申请人地址 :
广东省广州市番禺区大石街石北工业路684号(巨大创意产业园)12栋501、502、503、510号
代理机构 :
北京品源专利代理有限公司
代理人 :
胡彬
优先权 :
CN202020864673.2
主分类号 :
E02D33/00
IPC分类号 :
E02D33/00  E02D17/02  
相关图片
IPC结构图谱
E
E部——固定建筑物
E02
水利工程;基础;疏浚
E02D
基础;挖方;填方;地下或水下结构物
E02D33/00
基础或基础结构的试验
法律状态
2021-02-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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