一种新型批处理清洗机
授权
摘要
本实用新型公开了一种批处理清洗机，包括制程槽，第一进酸管路和第二进酸管路，其特征在于，所述第一进酸管路和第二进酸管路平行地设置在所述制程槽的底部且分别与所述制程槽的底部平行，以使得进入所述制程槽的清洗液相向平行地流动。本实用新型的批处理清洗机通过从两侧供酸可以减少晶圆与晶圆之间的浓度梯度和温度梯度，能够增加制程槽内的清洗液的均匀性和稳定性，因此提高晶圆的良率。
基本信息
专利标题 ：
一种新型批处理清洗机
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921419610.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-08-28
授权号 ：
CN210349786U
授权日 ：
2020-04-17
发明人 ：
李君顾立勋苏界
申请人 ：
长江存储科技有限责任公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
代理机构 ：
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 ：
李洋
优先权 ：
CN201921419610.X
主分类号 ：
H01L21/67
IPC分类号 ：
H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2020-04-17 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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