一种采用低层沉淀法的净水池设备

授权

摘要

本实用新型公开了一种采用低层沉淀法的净水池设备，包括基体、沉淀槽、推送结构、水槽和内槽，所述基体的内部设置有内槽，且内槽的底端设置有等间距的沉淀槽，所述沉淀槽下方的基体底端安装有推送结构，所述内槽的上方设置有等间距的斜管，所述安装结构上方的基体内壁上固定有板体，且板体的内部设置有等间距的内腔，且内腔与的安装结构相互配合，所述板体上方的基体内部设置有水槽，所述基体一侧的外壁上通过连接块固定有控制面板，且控制面板的内部安装有单片机。本实用新型不仅避免了该净水池设备颗粒沉降时受紊流干扰的情况发生，提高了该净水池设备的分离速度，而且降低了该该净水池设备的排泥周期。

基本信息

专利标题：

一种采用低层沉淀法的净水池设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921452645.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-09-03

授权号：

CN210964058U

授权日：

2020-07-10

发明人：

邓道平杨红孙青建郑海清郑俊

申请人：

湖北邓净净水设备有限公司

申请人地址：

湖北省宜昌市枝江市白洋镇五峰民族工业园

代理机构：

武汉惠创知识产权代理事务所(普通合伙)

代理人：

陈红燕

优先权：

CN201921452645.3

主分类号：

B01D21/02

IPC分类号：

B01D21/02