屏蔽膜
授权
摘要
本实用新型公开了一种屏蔽膜，包括由微电铸制备形成包括多条金属线的屏蔽区，以及由微电铸制备形成、连接于所述屏蔽区至少一侧、用以降低所述屏蔽区整体的厚度差异的缓冲区。通过微电铸制备屏蔽区以及在屏蔽区至少一侧制备缓冲区，使得屏蔽区的整体的厚度差异较小，从而使屏蔽区的厚度比较均匀，进而增强了屏蔽膜的电磁屏蔽效果。
基本信息
专利标题 ：
屏蔽膜
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921473959.1
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-05
授权号 ：
CN210840537U
授权日 ：
2020-06-23
发明人 ：
刘麟跃周小红基亮亮
申请人 ：
苏州维业达触控科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市苏州工业园区新昌路68号
代理机构 ：
上海波拓知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨波
优先权 ：
CN201921473959.1
主分类号 ：
H05K9/00
IPC分类号 ：
H05K9/00 C25D1/10
法律状态
2020-06-23 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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