一种景观区鸟瞰设计展示件掩埋结构
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摘要

本实用新型提出一种景观区鸟瞰设计展示件掩埋结构,包括一对鸟瞰设计展示件和地基层,地基层上方铺设有理石层,理石层上方铺设有凹型的混泥土层,混泥土层内设有凹型掩埋边框,凹型掩埋边框内固定安装有三角支撑架,三角支撑架上设有竖直的支撑桩,鸟瞰设计展示件位于三角支撑架左右腰边之间、坐落于支撑桩之上;鸟瞰设计展示件左右两侧还设有保护板、与下方的支撑桩之间设有缓冲垫;左右鸟瞰设计展示件内侧的保护板之间还填充有衬垫材料。本实用新型能够使得其在地表下方的安装掩埋牢靠,作为景观指示标志牌的地下掩埋工程,使用本掩埋结构,能够抵抗风大天气、地质结构差的地理环境,所安装的鸟瞰指示牌等景观区立杆能够很好地稳定站立。

基本信息
专利标题 :
一种景观区鸟瞰设计展示件掩埋结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921487365.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-08
授权号 :
CN210402960U
授权日 :
2020-04-24
发明人 :
范玮杨平李卉
申请人 :
重庆纬图景观设计有限公司
申请人地址 :
重庆市江北区金源路7号19-2
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN201921487365.6
主分类号 :
G09F7/18
IPC分类号 :
G09F7/18  E02D27/42  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G09
教育;密码术;显示;广告;印鉴
G09F
显示;广告;标记;标签或铭牌;印鉴
G09F7/00
标记,铭牌或号牌,字母,数字或符号;面板或牌
G09F7/18
连接标记、面板、板或牌到支承结构上的装置
法律状态
2020-04-24 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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