一种新型光能量增强利用结构
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

一种新型光能量增强利用结构,其包括第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜和曝光灯,第一菲涅尔透镜、第二菲涅尔透镜和曝光灯在竖直方向上依次设置,第一菲涅尔透镜的焦距为f1,第二菲涅尔透镜的焦距为f2,第一菲涅尔透镜和第二菲涅尔透镜之间的距离a,曝光灯与第二菲涅尔透镜之间的距离为s,曝光灯在第二菲涅尔透镜下方有一放大的虚像,该虚像与第二菲涅尔透镜之间的距离为s’,且符合f1=a+s’,‑1/s+1/s’=1/f2,虚像恰好在第一菲涅尔透镜的焦点上。曝光灯的虚像发出的光经过第一菲涅尔透镜的折射形成平行光,提高曝光图像的还原度,解决了现有技术中斜射光线解像度差和因固定灯距的点光源漫反射反光罩对光源能量利用率不高的问题。

基本信息
专利标题 :
一种新型光能量增强利用结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921491802.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-09
授权号 :
CN210466009U
授权日 :
2020-05-05
发明人 :
范金刚蓝学军胡迷俊
申请人 :
深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市龙华新区观澜街道四和社区茜坑路131号一楼A3
代理机构 :
深圳市神州联合知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 :
周松强
优先权 :
CN201921491802.1
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2020-07-24 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G03F 7/20
变更事项 : 专利权人
变更前 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更后 : 深圳市博宇佳瑞光电科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518000 广东省深圳市龙华新区观澜街道四和社区茜坑路131号一楼A3
变更后 : 518000 广东省深圳市龙华区观澜街道广培社区裕新路15号102
2020-05-05 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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