一种适用于曲面成像的焦平面探测器
授权
摘要
本专利提供一种适用于曲面成像的焦平面探测器，所述的适用于曲面成像的焦平面探测器包括：支撑衬底；赋形焦平面阵列，位于所述支撑衬底的表面，赋形焦平面阵列和支撑衬底的曲面形状保持一致。采用这种结构可以始终保持光线聚焦在焦平面探测器上，不需要通过复杂的光学校正计算便可以保证最大程度的成像效果，该结构适合大视场、大面阵高分辨率成像。所述的制备方法使用了PDMS柔性模具对硅基焦平面进行赋形，并且使用紫外固化材料和紫外光照进行定形，过程简单，成形过程不需要复杂昂贵的仪器和设备，并且制备效率高。
基本信息
专利标题 ：
一种适用于曲面成像的焦平面探测器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921494573.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-10
授权号 ：
CN210862938U
授权日 ：
2020-06-26
发明人 ：
叶振华张伟婷陈星刘丰硕孙常鸿
申请人 ：
中国科学院上海技术物理研究所
申请人地址 ：
上海市虹口区玉田路500号
代理机构 ：
上海沪慧律师事务所
代理人 ：
郭英
优先权 ：
CN201921494573.9
主分类号 ：
G01J5/20
IPC分类号 ：
G01J5/20 H01L27/144
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J5/00
辐射高温测定法
G01J5/10
用电辐射检测器
G01J5/20
用对辐射敏感的电阻器，热敏电阻器或半导体
法律状态
2020-06-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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