一种质谱离子源清洗清洁装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种质谱离子源清洗清洁装置，包括底座，所述底座的顶部固定连接有控制箱，所述控制箱内壁的底部设置有第一抽气泵，所述控制箱的顶部设置有吸气接头，所述吸气接头的底部连通有进气管，所述进气管的底端贯穿控制箱并延伸至控制箱的内部，所述进气管延伸至控制箱内部的一端与第一抽气泵的内部连通，所述控制箱内壁的顶部与底部之间且位于第一抽气泵的一侧开设有活动槽，所述第一抽气泵的出气口贯穿活动槽并延伸至活动槽的内部。该装置能够充分的对质谱离子源进行清洗，在清洗过程中，有效的避免了废气对离子源的污染，大大提高的清洗的效率，并且结构简单，清洗的成本低，大大提高了装置的实用性。
基本信息
专利标题 ：
一种质谱离子源清洗清洁装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921524007.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-14
授权号 ：
CN210905376U
授权日 ：
2020-07-03
发明人 ：
滕磊刘钦葛怡彤
申请人 ：
青岛英纳维生物科技有限公司
申请人地址 ：
山东省青岛市崂山区株洲路130号1号楼1层101室
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN201921524007.8
主分类号 ：
B01D46/12
IPC分类号 ：
B01D46/12 B01D53/06 B08B5/02
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B01
一般的物理或化学的方法或装置
B01D46/00
专门用于把弥散粒子从气体或蒸气中分离出来的经过改进的过滤器和过滤方法
B01D46/10
采用具有平表面的滤板、滤片或滤垫的粒子分离器，如聚尘器
B01D46/12
多排的
法律状态
2020-07-03 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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