质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备
授权
摘要

本实用新型属于箱体密封性检测技术领域,解决了现有技术在质谱检漏过程中待测箱体的箱壁容易产生变形的问题,提供了一种质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备。该质谱检漏真空腔体包括上盖体和下盖体,上盖体盖设在下盖体上,上盖体内位于待测箱体的上部设有若干支撑杆,支撑杆的数量与待测箱体壁面凹陷处的数量相匹配,支撑杆一端向与该支撑杆对应的待测箱体壁面凹陷处延伸并与该支撑杆对应的待测箱体壁面凹陷处相抵持。本实用新型在待测箱体壁面的凹陷处设置支撑杆进行支撑,直接对凹陷处提供支撑,同时也为待测箱体壁面凹陷处周围的壁面提供了支撑,提高了检测过程中待测箱体的整体强度,保证待测箱体的箱壁不会产生变形而导致产品报废。

基本信息
专利标题 :
质谱检漏真空腔体和质谱检漏设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921243094.X
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-02
授权号 :
CN210426901U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
龙超祥
申请人 :
深圳市远望工业自动化设备有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区福海街道桥头社区宝安大道6099号星港同创汇天璇座406
代理机构 :
深圳市惠邦知识产权代理事务所
代理人 :
孙大勇
优先权 :
CN201921243094.X
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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