一种PTC氦质谱检漏设备
授权
摘要

本实用新型公开了一种PTC氦质谱检漏设备,包括机架以及机架侧面开口处铰接的翻板门,所述机架后侧固定的隔网,所述机架上固定有控制箱、真空盒以及回收设备,所述真空盒内包括有盒架、盒架底部开口处套设的上开口盒以及盒架侧面滑动连接的下开口盒,所述下开口盒内侧套设有开口活塞,所述开口活塞底端转动连接有两个与下开口盒内壁抵接的导轮,所述开口活塞开口处套设有与两个导轮互相靠近的一侧抵接的凸垫。本实用新型中,由于采用了负压吸附抵紧结构,便于凸垫将加热器抵紧,在真空盒内恢复常压时避免加热器晃动脱离,又由于采用了低压罐缓冲回收设备,避免常压空气涌入时造成冲击,减少加热器受冲击造成损坏的可能性。

基本信息
专利标题 :
一种PTC氦质谱检漏设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202121744935.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2021-07-29
授权号 :
CN216160099U
授权日 :
2022-04-01
发明人 :
杨伟龙周宇
申请人 :
安徽伽德罗工业技术有限公司
申请人地址 :
安徽省合肥市高新区习友路1799号(博雷电气南边)四号厂房4幢车间101/201/301室
代理机构 :
上海恩凡知识产权代理有限公司
代理人 :
李强
优先权 :
CN202121744935.2
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2022-04-01 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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