真空腔体及质谱检漏设备

授权

摘要

本实用新型公开了一种真空腔体及质谱检漏设备。该真空腔体包括：上盖体；支撑座，对应所述上盖体设置；下盖体，设置在所述支撑座上，并与所述支撑座可拆卸连接；所述上盖体与所述下盖体之间形成有容纳腔；锁固部件，设置在所述支撑座与所述下盖体之间。本实用新型的真空腔体具有结构简单紧凑，交换负载低，便于更换，运行平稳，使用寿命长，工作效率高等优点。

基本信息

专利标题：

真空腔体及质谱检漏设备

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201921242682.1

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-08-02

授权号：

CN210322202U

授权日：

2020-04-14

发明人：

龙超祥

申请人：

深圳市远望工业自动化设备有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区福海街道桥头社区宝安大道6099号星港同创汇天璇座406

代理机构：

深圳市惠邦知识产权代理事务所

代理人：

孙大勇

优先权：

CN201921242682.1

主分类号：

G01M3/20

IPC分类号：

G01M3/20