质谱检漏设备
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摘要

本实用新型提供一种质谱检漏设备,用于检测待测箱体的气密性,质谱检漏设备包括:支撑架、真空腔体、升降机构、抽气机构、示踪气体源、充气机构、质谱检漏装置及控制装置。真空腔体设置为至少两个,且各真空腔体均放置在支撑架上,各真空腔体内设置有用于容纳待测箱体的容纳腔。升降机构设用于分别驱动所对应的各真空腔体的结合与分离。示踪气体源用于向待测箱体提供示踪气体。质谱检漏装置与真空腔体导通连接,用于检测容纳腔内的示踪气体含量,从而判断待测箱体是否合格。控制装置与升降机构、抽气机构、示踪气体源、充气机构及质谱检漏装置电连接以控制各自的工作。本实用新型质谱检漏设备的检漏耗时减少,工作效率提高。

基本信息
专利标题 :
质谱检漏设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921242709.7
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-08-02
授权号 :
CN210426899U
授权日 :
2020-04-28
发明人 :
龙超祥
申请人 :
深圳市远望工业自动化设备有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市宝安区福海街道桥头社区宝安大道6099号星港同创汇天璇座406
代理机构 :
深圳市惠邦知识产权代理事务所
代理人 :
孙大勇
优先权 :
CN201921242709.7
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2020-04-28 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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