氦质谱检漏仪
实质审查的生效
摘要

本申请实施例公开了一种氦质谱检漏仪,包括机架以及设置在所述机架上的上料模组,所述上料模组包括:传送组件,所述传送组件包括两个同步带,两个所述同步带平行且间隔设置;定位组件,所述定位组件设置于所述传送组件的一端,所述定位组件包括变距气缸以及光电传感器,所述变距气缸设置于两个所述同步带之间,所述变距气缸被配置为在垂直于所述同步带的运输面上对放置在所述同步带表面的待检产品进行阻挡;所述光电传感器被配置为检测待检产品的位置信息并传递位置信息至所述传送组件;所述定位组件被配置为将待检产品等间距分布。本申请实施例的一个技术效果在于通过定位组件与传送组件配合,实现对待测产品的自动分隔排布。

基本信息
专利标题 :
氦质谱检漏仪
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114354085A
申请号 :
CN202111657137.0
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-12-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
祝兴好魏海江鞠栋杰李键
申请人 :
济宁市海富电子科技有限公司
申请人地址 :
山东省济宁市高新区崇文大道6699号
代理机构 :
北京博雅睿泉专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
王春锋
优先权 :
CN202111657137.0
主分类号 :
G01M3/20
IPC分类号 :
G01M3/20  B07C5/38  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01M
机器或结构部件的静或动平衡的测试;其他类目中不包括的结构部件或设备的测试
G01M3/00
结构部件的流体密封性的测试
G01M3/02
应用流体或真空
G01M3/04
通过在漏泄点检测流体的出现
G01M3/20
应用特殊示踪物质,例如染料、荧光材料、放射性材料
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01M 3/20
申请日 : 20211230
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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