一种提升光气化反应光气浓度的装置
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摘要
本实用新型涉及一种提升光气化反应光气浓度的装置,包括脱气塔、脱气第一冷凝器以及脱气第二冷凝器;所述脱气塔底部的排液口与脱气循环泵的进料口管道连通;一脱气再沸器的进料口分别与所述脱气循环泵出料口、光气化反应系统的出料口管道连通;所述脱气再沸器的出料口与所述脱气塔中部连通;所述脱气塔顶部的排气口与所述脱气第一冷凝器顶部的进料口管道连通;所述脱气第一冷凝器底部的排液口分别与所述脱气塔、光气分离系统管道连通;所述脱气第一冷凝器与所述光气分离系统连通的管道上设置有脱气第一凝液泵;所述脱气第一冷凝器中部的排气口与所述脱气第二冷凝器顶部的进料口管道连通;脱气第二冷凝器中部的排气口与光气吸收系统管道连通。
基本信息
专利标题 :
一种提升光气化反应光气浓度的装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN201921552426.2
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2019-09-18
授权号 :
CN210974481U
授权日 :
2020-07-10
发明人 :
苏根生陈清忠刘影张耕黄永剑
申请人 :
福建省东南电化股份有限公司
申请人地址 :
福建省福州市福清市江阴镇江阴工业集中区国盛大道3号
代理机构 :
福州科扬专利事务所
代理人 :
郭梦羽
优先权 :
CN201921552426.2
主分类号 :
C07C263/10
IPC分类号 :
C07C263/10 C07C263/20 C07C265/14
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C263/00
异氰酸衍生物的制备
C07C263/10
由胺或羧基卤化物,例如与光气反应
法律状态
2020-07-10 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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