光气化反应生产中的循环溶剂及其除杂方法
实质审查的生效
摘要
本发明属于光气化反应过程杂质分离技术领域，具体涉及一种光气化反应生产中的循环溶剂及其除杂方法；除杂方法包括：(1)将粗溶剂精馏处理；(2)塔顶采出气相料流I，经冷凝后气液两相分离；所得液相料流II全部回流至塔顶，所得气相料流II进入尾气处理系统；(3)塔釜采出的液相料流I分为返回塔釜的液相料流III和送至溶剂反应釜的液相料流IV；(4)溶剂反应釜中加入胺类化合物，与液相料流IV反应；所得物料进行固液分离，液体产物作为循环溶剂直接回用。本发明的除杂方法可保证循环溶剂中胺消耗类物质总量被合理控制，降低了光气化反应中固体副产物生成，减轻原料在运输、储存中的堵塞，延长装置稳定运行时间，提升产物品质。
基本信息
专利标题 ：
光气化反应生产中的循环溶剂及其除杂方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114380714A
申请号 ：
CN202011110011.7
公开（公告）日 ：
2022-04-22
申请日 ：
2020-10-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
王振有陈良进徐丹文放吴雪峰马海洋张宏科
申请人 ：
万华化学集团股份有限公司;万华化学（宁波）有限公司
申请人地址 ：
山东省烟台市经济技术开发区天山路17号
代理机构 ：
北京信诺创成知识产权代理有限公司
代理人 ：
张笑笑
优先权 ：
CN202011110011.7
主分类号 ：
C07C263/10
IPC分类号 ：
C07C263/10 C07C265/14 B01D3/00 B01D3/14 B01D3/32 B01D3/42 B01J4/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C07
有机化学
C07C
无环或碳环化合物
C07C263/00
异氰酸衍生物的制备
C07C263/10
由胺或羧基卤化物，例如与光气反应
法律状态
2022-05-10 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C07C 263/10
申请日 : 20201016
申请日 : 20201016
2022-04-22 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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