一种用于管式PECVD设备的石墨舟电极对接装置
著录事项变更
摘要
本实用新型公开了一种用于管式PECVD设备的石墨舟电极对接装置，包括：长直状的电极杆，其由刚性导电材料制成；以及分别连接于所述电极杆两端的接电固定组件及电极头，其中，所述接电固定组件由刚性绝缘材料制成，所述接电固定组件安装于炉盖的外侧，从所述接电固定组件引出的电极杆穿过所述炉盖后沿着所述真空反应炉的轴线方向延伸至所述真空反应炉的内部。根据本实用新型，其相比原有的通过石墨舟角与陶瓷支撑杆上电极转接组件接触方式，可避免多个工艺周期后镀膜(绝缘膜)沉积于石墨舟角、电极转接组件接触区导致电极接触不良问题。
基本信息
专利标题 ：
一种用于管式PECVD设备的石墨舟电极对接装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921567753.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-20
授权号 ：
CN210796616U
授权日 ：
2020-06-19
发明人 ：
王玉明程海良闫宝洁曾俞衡陈晖谢利华李旺鹏
申请人 ：
苏州拓升智能装备有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市吴中区木渎镇金枫南路1258号B3幢二楼
代理机构 ：
北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
韩飞
优先权 ：
CN201921567753.5
主分类号 ：
C23C16/50
IPC分类号 ：
C23C16/50 H01L21/673
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/50
借助放电的
法律状态
2020-07-31 ：
著录事项变更
IPC(主分类) : C23C 16/50
变更事项 : 发明人
变更前 : 王玉明 程海良 闫宝洁 曾俞衡 陈晖 谢利华 李旺鹏
变更后 : 王玉明 程海良 闫宝杰 曾俞衡 陈晖 谢利华 李旺鹏
变更事项 : 发明人
变更前 : 王玉明 程海良 闫宝洁 曾俞衡 陈晖 谢利华 李旺鹏
变更后 : 王玉明 程海良 闫宝杰 曾俞衡 陈晖 谢利华 李旺鹏
2020-06-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
