包括受保护以防褪色的银表面的基材
授权
摘要
本实用新型涉及一种基材(1)，它包括最终银表面，该最终银表面通过保护层(4)来防止银褪色，该保护层具有介于1nm和200nm之间的厚度。所述保护层(4)包括第一Al2O3层(4a)，该第一Al2O3层设置在所述最终银表面上并且具有介于0.5nm和100nm之间的厚度，所述保护层还包括在该第一Al2O3层(4a)上的第二TiO2层(4b)，该第二TiO2层具有介于0.5nm和100nm之间的厚度。
基本信息
专利标题 ：
包括受保护以防褪色的银表面的基材
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921583061.X
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-23
授权号 ：
CN212199411U
授权日 ：
2020-12-22
发明人 ：
C·默讷斯特尔斯基V·斯帕索夫C·福雷
申请人 ：
斯沃奇集团研究和开发有限公司
申请人地址 ：
瑞士马林
代理机构 ：
北京市中咨律师事务所
代理人 ：
雷明
优先权 ：
CN201921583061.X
主分类号 ：
C23C16/455
IPC分类号 ：
C23C16/455 C23C16/40 C23C16/02 C25D3/64 C23C14/24 C23C14/16 C25D3/46 C25D3/48
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16/00
通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积工艺
C23C16/44
以镀覆方法为特征的
C23C16/455
向反应室输入气体或在反应室中改性气流的方法
法律状态
2020-12-22 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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